多晶硅的生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生一定量的廢氣和殘夜，這些廢氣和殘夜必須要經(jīng)過(guò)處理才能進(jìn)行排放，不然就違反了環(huán)境保護(hù)法。到底是用什么設(shè)備處理呢？下面一起來(lái)看看。

多晶硅是太陽(yáng)能和微電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料，隨著我國(guó)太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，多晶硅的需求量也與日俱增。目前，多晶硅工藝技術(shù)空前活躍。主要有西門(mén)子法、冶金法、等離子法、硅烷法、流化床法、熔鹽電解法、無(wú)氯工藝技術(shù)等。西門(mén)子法是通過(guò)氣相沉積的方式生產(chǎn)柱狀多晶硅。為了提高原料利用率，在原基礎(chǔ)上采用閉環(huán)式生產(chǎn)工藝即改良西門(mén)子法。改良西門(mén)子工藝生產(chǎn)的多晶硅產(chǎn)能約占世界總產(chǎn)能的80%。

廢氣和殘液的處理：在多晶硅制備中有大量的廢氣和廢液產(chǎn)生，國(guó)內(nèi)多數(shù)單位通常先用水洗水解，然后通過(guò)NaOH中和廢氣處理和殘液處理工序。

廢氣凈化：氯硅烷分離提純工序各精餾塔頂排放的含氯硅烷、氮?dú)獾膹U氣，及含氯硅烷、氫氣、氮?dú)?、氯化氫的多晶硅還原爐置換吹掃氣和多晶硅還原爐事故排放氣等，被送進(jìn)尾氣洗滌塔組，用水(鹽酸溶液)洗滌，廢氣中的氯硅烷與水發(fā)生以下反應(yīng)而被除去：

SiHCl3+2H2O=SiO2+3HCl+H2

SiCl4+2H2O=SiO2+4HCl

SiH2Cl2+2H2O=SiO2+2HCl+H2

出尾氣處理塔頂含有氮?dú)夂蜌錃獾膹U氣經(jīng)液封罐放空，出尾氣處理塔塔底含有SiO2固體的鹽酸溶液用泵送入工藝廢料處理工序。